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簡單介紹:
PVD多弧離子鍍原理是把真空弧光放電技術用於蒸發源的技術,即在真空環境下引燃蒸發源(陰極),與陽極之間形成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點放出陰極物質的離子.由於電流局部的集中,產生的焦耳熱使陰極材料局部的爆發性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應氣體化合,而沉積在工件表麵上形成被鍍的膜層。
詳情介紹:

【詳細說明】

JN-ZLD-1200立式蒸發鍍膜機